近日ASML高管表示摩爾定律依然生效，依靠現(xiàn)有的EUV光刻機等技術(shù)可以進一步將芯片制造工藝推進1納米，此言論是它在一季度營收下滑19％、凈利潤幾乎腰斬之后發(fā)出的，這可能是因為它憂慮芯片制造市場發(fā)生變化而給業(yè)界描繪的大餅。

如今的ASML依然是活得很滋潤的，全球芯片制造企業(yè)依然在搶購它的光刻機，不僅它的新光刻機廣受歡迎，甚至供不應(yīng)求，二手光刻機同樣極受歡迎，尤其是中國芯片企業(yè)的搶購，導(dǎo)致日本的二手光刻機漲價三倍。

不過由于光刻機的價格實在太昂貴，導(dǎo)致不少企業(yè)頗有微詞，其中日本芯片企業(yè)最先發(fā)起挑戰(zhàn)，鎧俠聯(lián)合日本的芯片設(shè)備企業(yè)研發(fā)的NIL工藝已舍棄了光刻機，據(jù)日媒的消息指使用NIL工藝可以大幅降低成本，因此鎧俠對于NIL工藝頗為滿意，預(yù)期該項工藝可以延伸至5納米。

北方某國因為當(dāng)下的境況難以買到光刻機，因此決定研發(fā)全新技術(shù)的光刻機，正研發(fā)X射線光刻機，X射線的波長比極紫外線的波長更短，如果這項技術(shù)獲得成功可以達到更高的精度、同時也可以大幅降低成本。

中國由于種種原因難以買到EUV光刻機，不過中國芯片制造可以DUV光刻機生產(chǎn)7nm工藝，然后再輔以芯片疊加技術(shù)取得相當(dāng)于5nm工藝的性能，而中國已是全球最大的芯片設(shè)備市場，如果中國對光刻機的需求下滑，那么對ASML將是重大打擊。

ASML更擔(dān)憂的是光刻機三大客戶臺積電、Intel和三星對光刻機的需求可能下滑，臺積電已表示在3納米工藝之后，2納米乃至更先進的工藝開發(fā)將面臨困難，因此它們都將延遲更先進工藝的研發(fā)，如此它們對EUV光刻機的需求將下滑。

可能ASML正是因為擔(dān)憂光刻機的需求在未來出現(xiàn)下滑，因此發(fā)出了這番言論，以鼓勵投資者，同時為芯片制造企業(yè)打氣，畢竟它的業(yè)務(wù)非常單一，光刻機是唯一的產(chǎn)品，如果光刻機的需求下滑，那么它將大傷元氣。

其實ASML當(dāng)下面臨的壓力已不僅是光刻機市場可能發(fā)生的變化，芯片市場也正從供給不足向供給過剩轉(zhuǎn)變，早前它就說全球芯片供給不足將延續(xù)，然而知名蘋果分析師郭明錤和Gartner都給出了不同預(yù)測，郭明錤表示目前手機芯片市場已出現(xiàn)過剩跡象，Gartner則認為下半年或明年將開始出現(xiàn)芯片過剩。

芯片出現(xiàn)過剩意味著當(dāng)下正大舉推進的芯片產(chǎn)能擴張將會暫停，對光刻機的需求將立即出現(xiàn)下降，可能ASML也正是因為擔(dān)憂光刻機的需求下滑，因此不斷發(fā)出正面信息，既是鼓舞自己也是為了提升投資者信心。

無論如何，這兩年全球芯片市場已發(fā)生重大變化，這已對全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈造成了巨大的沖擊，這種變化為ASML帶來了這兩年的好日子，但是同樣也是因為這種變化必將對ASML的光刻機造成深遠的影響，繼續(xù)維持這種好日子實在不太現(xiàn)實。