5 月 11 日消息，研究機(jī)構(gòu) TECHCET 發(fā)文，透露受半導(dǎo)體市場(chǎng)復(fù)蘇推動(dòng)，2025 年光刻材料收入預(yù)計(jì)增長(zhǎng) 7%，達(dá)到 50.6 億美元（注：現(xiàn)匯率約合 366.46 億元人民幣）。

該機(jī)構(gòu)表示，這一增長(zhǎng)主要由光刻膠需求大幅增長(zhǎng)導(dǎo)致，其中 EUV 光刻膠需求預(yù)計(jì)同比增長(zhǎng) 30%。隨著芯片產(chǎn)量增長(zhǎng)（尤其是邏輯芯片和 DRAM 芯片領(lǐng)域先進(jìn)節(jié)點(diǎn)器件產(chǎn)量提升），輔助材料和擴(kuò)展材料也將迎來強(qiáng)勁增長(zhǎng)。

▲ 圖源研究機(jī)構(gòu) TECHCET

TECHCET 數(shù)據(jù)顯示，2024 年（去年）光刻材料收入增長(zhǎng) 1.6%，達(dá)到 47.4 億美元（現(xiàn)匯率約合 343.28 億元人民幣）。其中 EUV 光刻膠表現(xiàn)最為突出，同比增長(zhǎng) 20%。而輔助材料和擴(kuò)展材料均表現(xiàn)良好，分別增長(zhǎng) 2%。

展望未來，預(yù)計(jì)到 2029 年，光刻材料市場(chǎng)將以 6% 的復(fù)合年增長(zhǎng)率增長(zhǎng)。未來市場(chǎng)發(fā)展將受到供應(yīng)鏈本地化趨勢(shì)影響，全球多地主要市場(chǎng)都將各自建設(shè)新設(shè)施，以發(fā)展干法光刻膠沉積和納米壓印光刻等創(chuàng)新技術(shù)。