-28nm PDK中提供用于數字和定制設計的StarRC技術文件

　　美國加利福尼亞州山景城2016年10月26日電 /美通社/ -- 中芯國際集成電路制造有限公司（簡稱“中芯國際”，紐約證交所股票代碼：SMI，香港聯(lián)交所股票代碼：981），世界領先的集成電路晶圓代工企業(yè)之一，中國內地規(guī)模最大、技術最先進的集成電路晶圓制造企業(yè)，與新思科技（Synopsys, Inc.，納斯達克股票市場代碼：SNPS）今日共同宣布，中芯國際已采用 Synopsys 的 StarRC ? 產品作為其28nm 工藝技術的寄生參數提取的標準解決方案。此次合作是 SMIC 和 Synopsys 不斷深入合作的結果，可為共同的客戶提供最佳的解決方案，滿足他們不斷增長的對先進節(jié)點上的準確性、性能和效率的要求。StarRC 解決方案可以為 SMIC 28nm 工藝提供物理級準確及快速的提取能力，而 SMIC 的28nm 工藝設計套件 (PDK) 中默認提供合格的 StarRC 技術文件，可供數字設計和定制設計使用。

　　StarRC 產品是 Synopsys Galaxy? Design Platform 簽核解決方案的重要組成部分，同樣也是門級和晶體管級寄生參數提取的市場領軍產品和行業(yè)標準。StarRC 具備優(yōu)異的分布式計算處理能力，而且還具備SMC 抽取及快速 ECO 功能，從而得到優(yōu)異的提取功能和效率，同時還能保證行業(yè)領先的準確性。StarRC 產品具有廣泛的適用性，從億門級數字系統(tǒng)芯片 (SoC) 設計到定制內存、IP、標準單元和模擬設計均包括在內。它與 Synopsys IC Compiler ? II 布局布線和 PrimeTime ?  靜態(tài)時序分析集成后，允許設計人員實現(xiàn)更快的ECO設計收斂，同時減少所用磁盤空間和處理器內核資源。在定制設計環(huán)境中，設計人員可以在寄生參數視圖和電路設計視圖之間交叉探測，可將提取到的寄生參數標示于電路設計圖中并執(zhí)行可視化調試。除此之外，StarRC 還可對性能進行充分優(yōu)化，以得到更精簡的網表從而減少對存儲空間的要求，而這將大大減少后續(xù)工具的仿真時間。SMIC 和 Synopsys 的合作能夠在 SMIC 的28nm  PDK 中為共同的客戶提供合格的 StarRC 技術文件，使其可使用物理級準確高效的提取解決方案來進行針對 SMIC 28nm 節(jié)點的設計。

　　SMIC 技術開發(fā)資深總監(jiān)黃國勛說：“28nm 對于半導體公司來說是一個重要的節(jié)點，我們也在不斷推進28nm 工藝技術，而合格設計工具的可用性對于支持我們不斷擴增的全球客戶群至關重要。與 Synopsys 的合作，體現(xiàn)了我們將長期致力于以世界一流的制造工藝為客戶提供高質量技術和標準。StarRC 具備可靠的物理級準確性，以及擁有可用于數字和定制設計中所需的全面功能，它在 SMIC 28nm PDK 中的應用為我們共同的客戶提供了更加豐富的資源，從而使他們在設計中能夠增強信心、提高效率。”

　　Synopsys 設計事業(yè)部市場營銷副總裁 Bijan Kiani 說：“滿足客戶不斷增長的需要，以解決復雜性和縮短設計與分析周期，對于推動客戶在先進的工藝技術取得成功至關重要。SMIC 在28nm工藝節(jié)點采用 StarRC 作為其寄生參數提取的標準解決方案，有利于幫助我們建立在行業(yè)中技術領先的地位，同時對我們共同的客戶提供了有利的支持?！?/p>