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石墨烯需警惕“低端陷阱”

2016-11-21

  作為石墨烯研究最為活躍的國家之一,我國石墨烯技術創(chuàng)新成果頻出,產(chǎn)業(yè)化發(fā)展勢頭迅猛。但與發(fā)達國家相比,我國石墨烯研究和產(chǎn)業(yè)發(fā)展基本處于產(chǎn)業(yè)鏈和價值鏈的低端,面臨著陷入“低端陷阱”的風險。

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  目前,我國石墨烯下游應用多集中在粉體(類石墨烯)領域,也就是將石墨烯作為改性添加劑應用于涂料、復合材料動力電池等規(guī)模大但對石墨烯的品質要求并不高的領域,產(chǎn)品附加值不高。由于這些應用技術門檻較低,再加上資本市場的熱捧,很多企業(yè)涉足其中,盲目擴大產(chǎn)能,產(chǎn)品低端同質化現(xiàn)象嚴重。

  截至2015年10月,我國石墨烯專利申請量達到13427件,約占全球申請總量的一半左右。但存在實用新型專利多、原創(chuàng)基礎專利少,國內(nèi)專利多、國際專利少,高校專利多、企業(yè)專利少的現(xiàn)象,真正原創(chuàng)性、技術影響力大的專利很少,造成我國石墨烯專利數(shù)量眾多但實際應用價值偏低的現(xiàn)狀。

  雖然我國石墨烯粉體和薄膜材料的制備已經(jīng)能夠初步實現(xiàn)量產(chǎn),但目前的制備技術普遍存在能耗多、水耗大和工藝不環(huán)保等問題,產(chǎn)業(yè)發(fā)展的環(huán)?!半[患猶存”。

  為此,國家有關部門應盡快制定我國石墨烯產(chǎn)業(yè)發(fā)展總體規(guī)劃,從中長期發(fā)展目標、產(chǎn)業(yè)布局、重點企業(yè)培育、關鍵技術突破、下游應用行業(yè)等方面統(tǒng)一部署,重點在芯片、集成電路等下游高端領域加強技術創(chuàng)新和前瞻性布局,并合理規(guī)劃產(chǎn)能,推進石墨烯差異化、特色化、集群化發(fā)展。

  應培育領軍企業(yè)。充分發(fā)揮產(chǎn)業(yè)政策和財政資金的引導作用,鼓勵社會資本參與,以培育具有國際競爭力的企業(yè)為目標,促進人才、資源、資本向優(yōu)勢企業(yè)集中。

  應加快技術突破。整合各類創(chuàng)新資源,成立國家級石墨烯創(chuàng)新中心,制定技術創(chuàng)新目錄和技術突破路線圖,對材料制備技術、清潔生產(chǎn)技術、下游高端應用等關鍵技術加強攻關;設立石墨烯產(chǎn)業(yè)基金,采用政策性財政支出和社會資本共同參與的模式,加快關鍵技術成果的轉化。

  此外,還應盡快建立標準規(guī)范體系,研究制定一批國家標準和行業(yè)標準。


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